离子反应_离子反应

据离子反应证券星消息，捷嘉伟创（300724）近期注册了两个项目的软件著作权，包括《反应式等离子体镀膜设备点火软件控制系统V1.0.0.0》、《反应式等离子体镀膜设备靶材供应软件控制系统V2.0.0.0》等。今年以来，捷嘉伟创已注册了3个软件著作权。结合公司2023年中期财务数据，2023年上半年，大众小发猫。

离子反应方程式江苏富淼科技有限公司申请了公开号为“阴离子水包水造纸添加剂及其制备方法和应用”CN117700628A，申请日为2024年1月。专利摘要显示，目前本发明公开了一种阴离子水包水造纸添加剂及其制备方法和应用，属于高分子聚合物制备领域。反应釜中加入去离子水，添加阴离子等。

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离子反应发生的条件据金融行业2024年2月24日消息，根据国家知识产权局公告，拓晶科技有限公司已获得授权公告号CN114300336B，名称为“一种等离子体反应器”申请日期为当年2021 年12 月。专利摘要显示，本发明提供一种等离子体反应器，其包括反应室。反应室设有第一抽气环、第二抽气环和喷嘴。

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离子反应教案证券明星消息，七查查数据显示，中国微电子股份有限公司（688012）新获得一项发明专利授权。该专利的标题为“用于形成涂层和等离子体反应装置的组件、方法和装置”。专利申请号为CN202010361061.6，授权日为2024年1月26日。 专利摘要：本发明属于等离子刻蚀技术领域，公开了一种耐等离子涂层的形成方法。还有什么？

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离子反应思维导图证券明星消息，据企查查数据显示，中国微电子股份有限公司（688012）新获得一项发明专利授权。该专利名称为“一种聚焦环、等离子体处理器及方法”，专利申请号为CN201911089041.1，授权日期为2024年3月12日。 专利摘要：本发明公开了一种聚焦环、等离子体处理器及方法。处理器和方法。等离子处理器包括一个反应室，但还有什么？

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离子反应的条件据金融界消息，2023年12月13日，据国家知识产权局公告，拓晶科技有限公司已申报项目名称为“检测系统、检测方法及存储介质”用于反应室中的等离子体特性”。专利号为CN117219481A，申请日为2023年9月。专利摘要显示，本发明提供了一种反应室内等离子体特性的检测系统及半导体器件。

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离子反应的本质证券明星消息，据企查查数据显示，中国微电子股份有限公司（688012）新获得一项发明专利授权，该专利名称为“一种等离子体处理装置及其导磁组件和方法”，该专利申请中。专利号为CN202010414741.X，授权日期为2024年3月12日。 专利摘要：本发明公开了一种等离子体处理装置及其导磁部件和方法。该装置包括一个反应室，稍后将介绍。